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產(chǎn)品展示/ Product display

您的位置:首頁  /  產(chǎn)品展示  /  分散機  /  高速分散機  /  GRS200氧化還原石墨分散機

氧化還原石墨分散機

氧化還原石墨分散機,石墨烯研磨設(shè)備采用德國先進的高速研磨分散技術(shù),通過超高轉(zhuǎn)速(高可達14000rpm)帶動超高精密的磨頭定轉(zhuǎn)子(通常配CM+8SF,定轉(zhuǎn)子間隙在0.2-0.3之間)使石墨烯漿料在設(shè)備的高線速度下得出超細的顆粒(當然也需要合適的分散劑做助劑),從而得出理想的石墨烯漿料。

  • 產(chǎn)品型號:GRS200
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2025-11-18
  • 訪  問  量:34
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詳細介紹

氧化還原石墨分散機

分散是至少兩種互不相溶或者難以相溶且不發(fā)生化學(xué)反應(yīng)的物質(zhì)的混合過程。工業(yè)分散的目標是在連續(xù)相中實現(xiàn)“令人滿意的"精細分布。                

氧化-還原法是指將天然石墨與強酸和強氧化性物質(zhì)反應(yīng)生成氧化石墨(GO),經(jīng)過超聲分散制備成氧化石墨烯,然后加入還原劑去除氧化石墨表面的含氧基團后得到石墨烯。氧化-還原法制備成本較低容易實現(xiàn),成為生產(chǎn)石墨烯的主流方法。但是該方法所產(chǎn)生的廢液對環(huán)境污染比較嚴重,所制備的石墨烯一般都是多層石墨烯或者石墨微晶而非嚴格意義上的石墨烯,并且產(chǎn)品存在缺陷而導(dǎo)致石墨烯部分電學(xué)和力學(xué)性能損失。

氧化還原石墨分散機


一般國內(nèi)或者石墨烯會用砂磨機或者球磨機,超聲波分散機等等?球磨機或者砂磨機他們偏重研磨,會破壞他們的內(nèi)部結(jié)構(gòu)。我們的研磨分散機偏重、分散剝離 。超聲波不適合工業(yè)化生產(chǎn),只是作為一種輔助分散。


在做納米粉體分散或研磨時,因為粉體尺度由大變小的過程中,范德華力及布朗運動現(xiàn)象逐漸明顯且重要。選擇適當助劑以避免粉體再次凝聚及選擇適當?shù)难心C來控制研磨漿料溫度以降低或避免布朗運動影響,是濕法研磨分散方法能否成功地得到納米級粉體研磨及分散關(guān)鍵技術(shù)。

 

SID石墨烯研磨設(shè)備采用德國先進的高速研磨分散技術(shù),通過超高轉(zhuǎn)速(高可達14000rpm)帶動超高精密的磨頭定轉(zhuǎn)子(通常配CM+8SF,定轉(zhuǎn)子間隙在0.2-0.3之間)使石墨烯漿料在設(shè)備的高線速度下形成湍流,在定轉(zhuǎn)子間隙里不斷的撞擊、破碎、研磨、分散、均質(zhì),從而得出超細的顆粒(當然也需要合適的分散劑做助劑)。綜合以上幾點可以得出理想的石墨烯漿料。

氧化還原石墨分散機


SID石墨烯研磨分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

氧化還原石墨分散機設(shè)備選型表:

研磨分散機

流量*

輸出

線速度

功率

入口/出口連接

類型

l/h

rpm

m/s

kW


GMSD2000/4

400

14,000

44

4

DN25/DN15

GMSD2000/5

1000

10,050

44

11

DN40/DN32

GMSD2000/10

3000

7,500

44

22

DN80/DN65

GMSD2000/20

8000

4,900

44

45

DN80/DN65

GMSD2000/30

20000

2,850

44

90

DN150/DN125

GMSD2000/50

60000

1,100

44

110

DN200/DN150

*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調(diào)節(jié)到最大允許量的 10%。


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