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氫氧化鎂阻燃劑分散機

氫氧化鎂阻燃劑分散機,是將膠體磨和分散機一體化的設備,先研磨后分散機,因為氫氧化鎂分散到水中或者溶劑當中,會形成二級團聚體,軟團聚。需要先將團聚體打開再進行分散。SID研磨分散機二級工作組,轉速高達14000rpm,剪切力強,分散更che底。

  • 產品型號:GMSD2000
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2025-11-18
  • 訪  問  量:25
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詳細介紹

氫氧化鎂阻燃劑分散機

隨著高分子材料工業的發展,塑料、橡膠、纖維等合成高分子材料越來越廣泛的用于建筑、化工、軍事及交通等領域。但大部分高分子材料均易于燃燒,在很多應用領域中,需要添加阻燃劑以降低其燃燒性及燃燒速度,從而達到預防火災、減緩火勢蔓延的密度。近年來,高分子阻燃技術受到全球性的關注阻燃劑以及成為jin此于增塑劑的第二大高分子材料用助劑。

作為重要的無極阻燃劑產品,氫氧化鋁和氫氧化鎂由于環境友好、阻燃性強而倍受人們青睞。與氫氧化鋁相比,氫氧化鎂具有熱穩定性高、成炭效率高和降酸能力強等特點。可以廣泛的應用于聚丙烯、聚苯乙烯、聚氯乙烯及不飽和樹脂等高分子材料的阻燃和消煙。

氫氧化鎂阻燃劑分散機

目前,氫氧化鎂阻燃劑的超細化、納米化是主要的研究方向。在高分子材料的加工溫度下,氫氧化鎂都是以顆粒狀存在于體系中,一般而言,填充量相同時,氫氧化鎂的顆粒越細,其分散越均勻,阻燃效果越明顯,對材料物理力學性能的負面影響越小,甚至還會起到剛性粒子增塑增強的效果。


然而,要獲得超細的氫氧化鎂助燃劑混懸液就必須使用高品質的分散設備,傳統的分散設備,一方面無法將氫氧化鎂漿料進一步細化,另一方分散效果不佳。SID結合多家阻燃劑廠家,可知,采用的GMSD2000系列研磨分散機對氫氧化鎂漿料進行進一步的研磨和分散,粒徑更小,分散更均勻。


SID研磨分散機是將膠體磨和分散機一體化的設備,先研磨后分散機,因為氫氧化鎂分散到水中或者溶劑當中,會形成二級團聚體,軟團聚。需要先將團聚體打開再進行分散。SID研磨分散機二級工作組,轉速高達14000rpm,剪切力強,分散更che底。


GMSD2000系列研磨分散設備是SID公司經過研究剛剛研發出來的一款新型產品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝,我們將三級變更為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經過膠體磨細化物料,然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)

氫氧化鎂阻燃劑分散機


氫氧化鎂阻燃劑分散機設備選型表:

研磨分散機

流量*

輸出

線速度

功率

入口/出口連接

類型

l/h

rpm

m/s

kW


GMSD2000/4

400

14,000

44

4

DN25/DN15

GMSD2000/5

1000

10,050

44

11

DN40/DN32

GMSD2000/10

3000

7,500

44

22

DN80/DN65

GMSD2000/20

8000

4,900

44

45

DN80/DN65

GMSD2000/30

20000

2,850

44

90

DN150/DN125

GMSD2000/50

60000

1,100

44

110

DN200/DN150

*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調節到最大允許量的 10%。



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